基因毒性杂质的形成机制是什么？

　　药物中的基因毒性杂质来源包括：①基因毒性试剂（genotoxic reagents）：药物合成中的原料、反应试剂或催化剂；②基因毒性合成产物（genotoxic synthetics）：2个或2个以上的物料或试剂反应生成的中间体或副产物；③基因毒性降解产物（genotoxic degradants）：原料药或制剂储存或运输过程中生成的降解产物等。

　　N-亚硝胺类

　　N-亚硝胺类是ICHM7(R1)“关注队列”中的物质，是被高度关注的基因毒性杂质，是亚硝基（-NO）上的氮原子与氨基的氮原子连接而形成的化合物（氨基通常被取代）。包括：N-亚硝基二甲胺（NDMA）、N-亚硝基二乙胺（NDEA）、N-亚硝基二丁胺（NDBA）、N-亚硝基甲基乙基胺、N-亚硝基二丙胺、N-亚硝基吗啉、N-亚硝基哌啶、N-亚硝基吡咯等。

　　其中，NDMA和NDEA被WHO列为2A类致癌物。N-亚硝胺类可能通过亚硝化机理生成，在一定条件下，胺类化合物可与亚硝酸钠（NaNO2）或其他亚硝化试剂反应产生亚硝胺类杂质。药物生产过程中，如果使用了亚硝化试剂（如：亚硝酸盐、亚硝酸酯、亚硝酸、叠氮钠等），同时以含氨基基团的物质为反应原料、中间体或溶剂（如：N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮）时，就有可能生成N-亚硝胺类杂质。

　　根据基因毒性杂质的形成机理，如果药物在制备中使用了具有基因毒性的物料与试剂，或是在特定条件下，物料之间或物料与试剂之间可能发生化学反应而形成含基因毒性警示结构的杂质时，均应关注相关品种中引入基因毒性杂质的风险。

　　基因毒性杂质的限度较低（通常小于100ppm，NDMA和NDEA等杂质低于1ppm），对部分限度较低的杂质，GC-FID法和HPLC-UV法的灵敏度（~10ppm）通常无法满足检测要求，需用更高灵敏度和选择性的检测方法，色谱-质谱联用技术（GC-MS法、LC-MS法等）为主要的分析检测手段。由于高浓度的API可能干扰痕量杂质的测定，应选择合适的前处理方法对样品进行分离、纯化或富集。