基因毒性杂质指的是化合物本身直接或间接损伤细胞DNA，造成基因突变或体内诱变，具备有致癌可能或倾向。其特性是低浓度就能对人体遗传物质造成影响和损伤，继而导致基因突变及肿瘤的发生，主要是分为致癌性和致突变性两种。药物的基因毒性杂质主要是来源于原料药合成过程中的起始物料、中间体、试剂和副产物，再有降解产物。原料药和制剂中的基因毒性杂质需要评估和控制，建立基因毒性杂质控制方法时，需考虑到安全性和质量风险两方面。

　　对于基因毒性杂质的分析方法包含定性筛查和实现限量控制的定量分析，考虑到基因毒性杂质的高风险性，确定其存在的身份（ID）十分重要，然而现阶段不同渠道推荐的原料药/制剂中基因毒性杂质的色谱质谱分析方法，缺少对其身份的确定，有可能出现假阳性的结果，而盲目进行限量控制，甚至于为此生产企业进行不必要的工艺改进，给企业造成极大浪费和损失，特发此文供大家参考与讨论。

　　一、概述

　　1、原料药/制剂中基因毒性杂质的确证有多种方式，采用标准规定添加法来对结果进行确证是普遍技术标准。

　　2、在采用色谱质谱技术时，标准规定添加法除了考察了保留时间外，还考察碎片离子。

　　3、对于基因毒性杂质阳性结果的确定，需要多个方面技术的综合判断才科学，欧盟颁布的2002/657/EC对阳性结果确证的技术标准是现阶段公认和普遍采用的技术标准，具体参考此技术标准。

　　二、阳性结果确证技术标准

　　1、色谱分离。进行GC-MS分析时，气相色谱分离应使用毛细管柱。进行LC-MS分析时，色谱分离应使用适当的LC柱。分析物的最小可接受保留时间，应大于等于色谱柱死体积保留时间的两倍。样品中分析物的保留时间（或相对保留时间），应与校正溶液的保留时间一致。分析物和内标的保留时间之比，也就是相对保留时间，应与校正溶液的相对保留时间一致，GC允许偏差为±0.5%，LC允许偏差为±2.5%。

　　2、质谱技术。质谱检测使用的质谱技术包含全扫描、选择离子监测（SIM）以及质谱-多级质谱（MS-MSn）技术。如采用高分辨质谱（HRMS），其分辨率一般来说应大于10000。

　　全扫描：用全扫描技术进行质谱测定时，对照品图谱中所有相对丰度大于10%的定性离子（分子离子、分子离子的特征加成物、特征碎片离子、同位素离子等）都必须检测。

　　选择离子扫描：用碎片离子进行质谱测定时，分子离子最好是一个诊断离子（分子离子、分子离子特征加成物、特征碎片离子、所有同位素离子）。每个诊断离子的信噪比应≥3:1。

　　全扫描和选择离子扫描：在同样的测定条件下，检测离子的相对丰度，应当与浓度相当的校正标准的相对丰度一致。校正标准可以是校正标准品溶液，也可以是加标样品，特征质谱碎片离子相对丰度应处于最大容许限度内

　　特征碎片离子相对丰度的偏差的计算：

　　偏差=（分析物的特征碎片离子相对丰度-对照品的特征碎片离子相对丰度）/对照品的特征碎片离子相对丰度×100%

　　全扫描：当采用全扫描技术时，至少要存在四个相对丰度大于等于基峰10%的离子。如果图谱中有相对丰度≥10%的分子离子峰，则分子离子峰应包括在内。并且四种离子的相对丰度应在最大容许限度范围内

　　筛查出可疑结果时，应用相关技术要求进行阳性结果的确证。应用质谱确证时，可疑原料药/制剂中基因毒性杂质的特征质谱碎片离子相对丰度与相应的对照品的特征质谱碎片离子相对丰度比较，处于特征质谱碎片离子相对丰度的最大允许限度范围内，则判定样品为阳性样品。